All 1 H NMR spectra were recorded on a Bruker AVANCE III™ 500 spectrom的繁體中文翻譯

All 1 H NMR spectra were recorded o

All 1 H NMR spectra were recorded on a Bruker AVANCE III™ 500 spectrometer (500 MHz) by using CDCl3 as a solvent. GPC data were obtained from Waters GPC system equipped with a Waters 1515 isocratic HPLC pump, a 2414 refractive index (RI) detector, and two Waters' HPLC columns. Tetrahydrofuran was used as the solvent for polymers and eluent for GPC with a flow rate of 1 ml min−1 at 30 °C. The GPC instrument was calibrated with narrowly dispersed linear polystyrene standards. Transmission electron microscopy (TEM) images were obtained using a JEM-2100 F TEM instrument. Samples were prepared by dip-coating a 400-mesh carbon-coated copper grid from the dilute sample solution allowing the solvent to evaporate. GC/MS analysis were obtained on an Agilent 6890 Series GC System with a Hewlett-Packard 5973 Mass Selective Detector (70 eV) using a HP-5MS fused silica capillary column (cross-linked 5% phenyl ethyl siloxane, 30 m × 0.25 mm ID × 0.25 μm film thickness) and argon as a carrier gas (1 mL/min). The split ratio was 1:50. The injector temperature was kept at 270 o C and detector was kept at 280 oC. The column temperature was held at 60 o C for 3 min, increased to 280 o C at a rate of 25 oC/ min, and then kept at 280o C for 5 min. A Quantachrome Autosorb IQ surface area and porosity analyzer were utilized to study the pore structure of the samples. Before measurements, the polymer samples were degassed for more than 10 h at 120 °C. The Brunauer–Emmett–Teller surface area and the micropore surface area were determined by the BET equation and the t-plot equation, respectively. The pore size distribution was analyzed by original density functional theory (DFT). FT-IR analysis was carried out using the Thermo NICOLET iS50. The powder X-ray diffraction (XRD) patterns of samples were recorded on an Ultima IV, Rigaku model D/MAX-50KV system (Cu Kα radiation, λ =1.5418 Å). UV − vis spectra were recorded using a SOPTOP UV2400 spectrophotometer.
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結果 (繁體中文) 1: [復制]
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所有1 H-NMR譜是通過使用以CDCl3為溶劑記錄在Bruker AVANCE III™500光譜儀(500兆赫)。GPC數據來自配備有Waters 1515等度HPLC泵,2414折射率(RI)檢測器,和兩個Waters的HPLC柱的Waters GPC系統獲得。使用四氫呋喃作為以1ml min-1的流率,在30℃下聚合物的溶劑和洗脫液為GPC。GPC儀器用窄分散的線性聚苯乙烯標準校準。透射電子顯微鏡(TEM)通過使用JEM-2100˚FTEM儀器獲得的圖像。樣品通過浸塗從稀釋樣品溶液,允許溶劑蒸發400目碳塗佈的銅格柵製備。獲得在Agilent 6890系列GC系統用惠普5973質量選擇檢測器(70 eV)的GC / MS分析使用HP-5MS熔融石英毛細管柱(交聯的5%苯基乙基矽氧烷,30米×0.25毫米ID×0.25微米膜厚度)和氬氣作為載氣(1毫升/分鐘)。分流比為1:50。注射器溫度保持在270℃,並檢測器保持在280攝氏度。該柱溫度保持在60保持℃下3分鐘,以25℃/ min的速率升溫至280℃,然後保持在280o C為5分鐘。在Quantachrome AUTOSORB IQ表面積和孔隙率分析儀用來研究樣品的孔隙結構。測量之前,將聚合物樣品在120℃下脫氣超過10小時。布魯諾爾 - 埃米特 - 特勒表面積和微孔表面積分別用BET方程和t-曲線方程,來確定。孔徑分佈是由原始密度泛函理論(DFT)進行分析。FT-IR分析進行了使用熱電尼IS50。樣品的粉末X射線衍射(XRD)圖案記錄一個的Ultima IV,日本理學模型d / MAX-50KV系統上(銅Kα輻射,λ= 1.5418?)。UV - 使用SOPTOP UV2400分光光度計可見光譜記錄。
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結果 (繁體中文) 2:[復制]
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使用 CDCl3 作為溶劑,所有 1 個 H NMR 光譜都記錄在布魯克 AVANCE III™ 500 光譜儀(500 MHz) 上。GPC 資料來自沃特世 GPC 系統,該系統配備沃特世 1515 異異式 HPLC 泵、2414 折射率 (RI) 探測器和兩個沃特世 HPLC 柱。四氫富蘭用作聚合物的溶劑和GPC的稀釋劑,在30°C時流速為1ml min-1。GPC儀器採用狹窄分散的線性聚苯乙烯標準進行校準。使用JEM-2100 F TEM儀器獲得透射電子顯微鏡(TEM)圖像。樣品是通過從稀釋樣品溶液中浸覆400網狀碳塗層銅網格製備的,使溶劑得以蒸發。GC/MS分析是在安捷倫6890系列GC系統上獲得的,該系統採用惠普5973品質選擇性檢測器(70 eV),使用HP-5MS熔融矽毛細柱(交聯5%苯基矽氧烷,30 m × 0.25 mm ID = 0.25 μm薄膜厚度)和argon作為載運氣體(1 mL/min)。分割比為1:50。噴油器溫度保持在270°C,探測器保持在280°C。柱溫保持在60°C3分鐘,以25°C/分鐘的速度升高至280°C,然後保持在280°C5分鐘。利用廣色AutosorbIQ表面積和孔隙度分析儀對樣品的孔隙結構進行了研究。在測量之前,聚合物樣品在120°C下脫氣超過10小時。布魯瑙爾-埃米特-泰勒表面積和微孔表面積分別由BET方程和t-圖方程確定。通過原始密度函數理論(DFT)對孔徑分佈進行了分析。FT-IR 分析是使用熱尼科爾 TS50 進行的。樣品的粉末X射線衍射(XRD)模式被記錄在Ultima IV,理學型號D/MAX-50KV系統(Cu K+輻射,±1.5418+)上。UV + 光譜是使用 SOPTOP UV2400 分光光度計記錄的。
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結果 (繁體中文) 3:[復制]
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所有1h核磁共振波譜均記錄在Bruker AVANCE III™500光譜儀(500 MHz)上,使用CDCl3作為溶劑。GPC數據來自Waters-GPC系統,該系統配有Waters-1515等比例HPLC泵、2414折射率(RI)檢測器和兩個Waters-HPLC柱。使用四氫呋喃作為聚合物的溶劑,並在30℃下以1 ml min-1的流速將洗脫液用於GPC。GPC儀器用窄分散線性聚苯乙烯標準進行校準。利用JEM-2100型透射電子顯微鏡(TEM)獲得了透射電子顯微鏡(TEM)影像。樣品的製備方法是從稀釋的樣品溶液中浸塗400目碳塗層銅網格,使溶劑蒸發。採用HP-5MS熔融石英毛細管柱(交聯5%苯基乙基矽氧烷,30 m×0.25 mm ID×0.25μm膜厚),氬氣為載氣(1 mL/min),採用Hewlett-Packard 5973質量選擇檢測器(70 eV),在Agilent 6890系列氣相色譜系統上進行了GC/ MS分析。分割比為1:50。注射器溫度保持在270℃,檢測器溫度保持在280℃。柱溫60℃、升溫至280℃、升溫速率25℃/min、升溫至280o℃、再升溫至280o℃、保溫5min,用全自動比表面積儀和孔隙率分析儀研究樣品的孔結構。在量測之前,將聚合物樣品在120℃下脫氣10小時以上。分別用BET方程和t圖方程確定Brunauer-Emmett-Teller比表面積和微孔比表面積。用原始密度泛函理論(DFT)分析孔徑分佈。使用Thermo NICOLET iS50進行FT-IR分析。在Ultima IV,Rigaku模型D/MAX-50KV系統(CuKα輻射,λ=1.5418Å)上記錄了樣品的粉末X射線衍射(XRD)圖。用紫外可見分光光度計記錄紫外可見光譜。<br>
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