Partially-sintered Kavo zirconia bl

Partially-sintered Kavo zirconia blocks (Kavo Corp., Germany) with the same batch and the same after-sintered size of 11×10×5 mm were used in this study. The specimens were cut and milled by Kavo CAD/ CAM system (Kavo Corp., Germany). Afterwards, the specimens were ground by 120, 200, 400, 600, 800, and 1000 grit SiC paper sequentially, and polished adopting 15 μm diamond paste. They were sandblasted by alumina particles of 120 µm at 0.15 MPa for 20 seconds. Finally, the specimens were cleaned by ultrasonic cleaning for 10 min, and dried by infrared drying light. The veneering process was performed using KISS veneering porcelain (Degudent Corp., Germany) on the fully sintered zirconia, and the sintering process was performed by Ney Centurion Q 50 porcelain furnace (Ney Dental Inc, American).

結果 (繁體中文) 1:

部分燒結的氧化鋯卡福塊（卡福公司，德國）用相同批次和的11×10×5mm的相同的後燒結尺寸在該研究中使用。試樣被切斷，由卡福CAD / CAM系統（卡福公司，德國）研磨。此後，將試樣通過地面120，200，400，600，800，和1000號粒度SiC紙順序，和拋光採用15μm的鑽石膏。他們由為120μm的氧化鋁顆粒以0.15MPa的壓力噴砂20秒。最後，將樣品通過超聲波清洗10分鐘清洗，並通過紅外乾燥光乾燥。在完全燒結的氧化鋯使用KISS飾面瓷（Degudent公司，德國）進行鑲飾工藝，並通過內伊Centurion的Q 50瓷爐（Ney的牙科公司，美國）中進行燒結過程。

結果 (繁體中文) 2:

本研究使用了相同批次和相同燒結尺寸為11×10×5毫米的卡沃氧化矽塊（德國Kavo Corp.）。這些樣品由卡沃CAD/CAM系統（德國卡沃公司）切割和銑削。之後，將標本按 120、200、400、600、800 和 1000 砂礫 SiC 紙依次研磨，並採用 15 μm 鑽石膏進行拋光。它們被氧化鋁顆粒120μm以0.15 MPa噴砂20秒。最後，用超聲波清洗10分鐘，用紅外乾燥光乾燥。貼面過程使用KISS飾面瓷器（德國Degudent公司）在完全燒結的氧化矽上進行，燒結過程由Ney Centurion Q 50瓷爐（美國Ney牙科公司）執行。

結果 (繁體中文) 3:

採用德國Kavo公司生產的部分燒結Kavo氧化鋯塊體，同一批，燒結後尺寸為11×10×5mm。試樣由Kavo CAD/CAM系統（德國Kavo公司）切割和銑削。然後分別用120、200、400、600、800、1000號碳化矽砂紙對試樣進行研磨，並用15μm金剛石膏拋光。用120μm的氧化鋁顆粒在0.15mpa下噴砂20秒。最後，用超聲波清洗10分鐘，用紅外線乾燥。在完全燒結的氧化鋯上使用KISS貼面瓷（德國Degudent公司）進行貼面處理，在Ney Centurion Q 50陶瓷爐（美國Ney牙科公司）進行燒結處理。