Then, in Figure 6, we plotted our o

Then, in Figure 6, we plotted our oxidizing gas parameter and reducing gas parameter with nitrogen factors against etch rate in three etch recipes. All points in each graph were fitted with a linear trend line, each having little variation as indicated by the good R2 values.

結果 (繁體中文) 1:

然後，在圖6中，我們繪製了氧化性氣體參數和還原性氣體參數與針對三個蝕刻處方蝕刻速率氮因素。在每個曲線圖中的所有點均配備有線性趨勢線，每一個都具有小的變化以良好的R2值所指示的。

結果 (繁體中文) 2:

然後，在圖6中，我們繪製了氧化氣體參數，並在三個蝕刻配方中繪製了氮因數對蝕刻速率的氣體參數。每個圖形中的所有點都裝有一條線性趨勢線，每個點都沒有什麼變化，如良好的 R2 值所示。

結果 (繁體中文) 3:

然後，在圖6中，我們繪製了三個蝕刻配方中氧化氣體參數和含氮還原氣體參數與蝕刻速率的關係圖。每個圖中的所有點都用一條線性趨勢線擬合，每個點的變化很小，如良好的R2值所示。