CxFy, O2, and Ar are three gases th

CxFy, O2, and Ar are three gases that typically are used for the BARC opening process. O2 is used for combusting carbon, CxFy is used for increasing selectivity of BARC to resist, and Ar is used for promoting the sputtering component.In this study, we chose CF4, O2, and Ar as etch gases. A series of experiments were designed in mixture model with a constant total gas flow rate and variable gas ratios. The result was analyzed in Design Expert 7 software to find the behavior of different polymers in plasma etching

結果 (繁體中文) 1:

為CxFy，O 2，和Ar是通常被用於BARC開口工藝三種氣體。O2用於燃燒碳，CxFy的用於增加BARC的選擇性抵抗，且Ar為被用於促進濺射component.In這項研究中，我們選擇了CF4，O2，和Ar作為蝕刻氣體。一系列的實驗設計在混合模型以恆定的總氣體流率和可變氣體比率。結果分析。以設計專家7軟件，找到不同的聚合物的等離子蝕刻行為

結果 (繁體中文) 2:

CxFy、O2 和 Ar 是通常用於 BARC 開啟工藝的三種氣體。O2 用於燃燒碳，CxFy 用於提高 BARC 的抗性選擇性，使用 Ar 用於促進濺射部件。在這項研究中，我們選擇了CF4、O2和Ar作為蝕刻氣體。在混合模型中設計了一系列具有恆定總氣體流速和可變氣體比的混合物模型。在設計專家7軟體中分析結果，發現不同聚合物在等離子蝕刻中的行為

結果 (繁體中文) 3:

CxFy、O2和Ar是三種通常用於BARC打開過程的氣體。氧用於燃燒碳，CxFy用於提高BARC的抗選擇性，Ar用於促進濺射成分，本研究選擇CF4、O2和Ar作為刻蝕氣體。在混合氣體模型中，設計了一系列恒定總流量和可變氣體比的實驗。在Design Expert 7軟件中對結果進行了分析，以發現不同聚合物在电浆刻蝕中的行為