The first paper, by Kishimura et al

The first paper, by Kishimura et al. and published by SPIE in 2002, studied fluorine-containing polymers etched in Cl2-based plasma. A negative NF was added in the equation (5) to get a better fit for their data [8]. Because Cl2 is a reducing gas, the halogen atoms in the polymer should be the fast-etch material. The number of fluorine atoms, NF, in the etch equation should be negative

結果 (繁體中文) 1:

第一篇論文，由岸村等人。並通過SPIE 2002年出版的，研究含氟聚合物蝕刻基於氯氣等離子體。負NF的等式（5）中的溶液中加入以獲得更適合它們的數據[8]。因為氯氣是還原性氣體，該聚合物中的鹵原子應當是快速的蝕刻材料。氟原子的數目，NF，蝕刻方程中應該是負

結果 (繁體中文) 2:

第一篇論文由Kishimura等人撰寫，由SPIE于2002年出版，研究了在Cl2基等離子體中蝕刻的含氟聚合物。在方程 （5） 中添加了負 NF，以更好地適應其資料 [8]。由於Cl2是一種還原氣體，聚合物中的鹵素原子應該是快速蝕刻材料。蝕刻方程中的氟原子、NF 的數量應為負數 ...

結果 (繁體中文) 3:

第一篇論文，作者Kishimura等人。2002年由SPIE出版，研究了在Cl2基电浆中蝕刻的含氟聚合物。在方程（5）中加入負的NF，以便更好地擬合數據[8]。由於Cl2是還原性氣體，聚合物中的鹵素原子應該是快速蝕刻資料。蝕刻方程式中的氟原子數NF應為負