More recent discoveries have challe

More recent discoveries have challenged monomer pen- etration model to fully explain how surfactants penetrate skin. Following surfactant exposure, skin irritation and barrier disruption increases with increasing concentration of surfactant, even at surfactant concentrations above the CMC, where the monomer level is constant [15–17]. Additionally, typical dermal exposure occurs at concentrations of 1– 10 wt% surfactant, concentrations that are two or three orders of magnitude above the CMC concentrations. At these typical in-use concentrations nearly all of the surfactants exist in micelles with only a small fraction ∼0.1% existing as monomers. Finally, the correlation between surfactant CMCs (the monomer level) and aggressiveness was not found in systems studied more recently [18].

結果 (繁體中文) 1:

最近的發現挑戰單體筆etration模型，充分說明如何表面活性劑透過皮膚。下列表面活性劑曝光，對皮膚的刺激並用，即使在表面活性劑濃度的CMC，上述增加表面活性劑的濃度，屏障破壞的增加



，其中單體水平是恆定的[15-17]。另外，典型的皮膚暴露發生在1- 10個濃度％（重量）表面活性劑，濃度是CMC濃度以上大小的兩個或三個數量級。在這些典型的使用中的濃度幾乎所有的表面活性劑存在於膠束與只有一小部分〜0.1％現有作為單體。最後，表面活性劑的CMC（單體水平）和侵略性之間的相關性在最近[18]研究了系統沒有被發現。

結果 (繁體中文) 2:

最近的發現挑戰了單筆的模樣，以充分解釋表面活性劑如何穿透皮膚。表面活性劑暴露後，皮膚刺激和阻隔干擾會隨著表面活性劑濃度的增加而增加，即使在表面活性劑濃度高於CMC時，

其中單體水準恒定 [15[17]。此外，典型的皮膚接觸發生在1~10 wt%表面活性劑的濃度，濃度比CMC濃度高2到3個數量級。在這些典型的在用濃度中，幾乎所有的表面活性劑都存在於小米細胞中，只有一小部分±0.1%作為單體存在。最後，在近期研究的系統中沒有發現表面活性劑CMC（單體水準）和攻擊性之間的相關性[18]。

結果 (繁體中文) 3:

最近的發現挑戰了單體pen-etration模型來完全解釋表面活性劑如何滲透皮膚。表面活性劑暴露後，皮膚刺激和屏障破壞隨著表面活性劑濃度的新增而新增，即使表面活性劑濃度高於CMC，
其中單體水准恒定[15–17]。此外，典型的皮膚暴露發生在濃度為1-10 wt%的表面活性劑，濃度比CMC濃度高出兩到三個數量級。在這些典型的使用濃度下，幾乎所有的表面活性劑都存在於膠束中，只有一小部分∼0.1%作為單體存在。最後，最近研究的體系中沒有發現表面活性劑CMCs（單體水准）與侵蝕性之間的關係[18]。