An ArF resist was tested first as a

An ArF resist was tested first as a standard to determine etch selectivity, and the resulting contour graph of etch rate is shown in Figure 1. This resist is an acrylate polymer, and its etch rate increased with increasing O2 content in the etch recipe, which means burning of a carbon compound is the major step that dominates the etch process. The other two gases had a minimal effect on etch rate

結果 (繁體中文) 1:

的ArF抗蝕劑被第一試驗作為標準來確定的蝕刻選擇性，並且蝕刻速率的所得到的等值線圖在圖1中示出該抗蝕劑是丙烯酸酯聚合物，並且其蝕刻速率在蝕刻配方增加O2含量的增加，這裝置燃燒碳的化合物的是佔主導地位的蝕刻工藝的主要步驟。另兩種氣體對刻蝕速率的影響最小

結果 (繁體中文) 2:

ArF 電阻首先作為確定蝕刻選擇性的標準進行測試，所得蝕刻速率的輪廓圖如圖 1 所示。這種抗性是一種丙烯酸酯聚合物，其蝕刻速率隨蝕刻配方中O2含量的增加而增加，這意味著燃燒碳化合物是主導蝕刻工藝的主要步驟。其他兩種氣體對蝕刻速率的影響最小

結果 (繁體中文) 3:

首先測試ArF抗蝕劑作為確定蝕刻選擇性的標準，得到的蝕刻速率輪廓圖如圖1所示。這種抗蝕劑是一種丙烯酸酯聚合物，其蝕刻速率隨著蝕刻配方中氧含量的新增而新增，這意味著碳化合物的燃燒是控制蝕刻過程的主要步驟。另外兩種氣體對蝕刻速率的影響最小