這種反應方案的關鍵特徵是從H2O2生成h+和減少H+形成H2,這兩種反應都由金屬顆粒促進。由於h+源自H2O2,這種機制表明,無論使用興奮劑類型和水準如何,PSi都可以以同樣的方式被檢測出。然而,在遠離金屬塗層區域的蝕刻深度上,興奮劑水準的差異被重新反映。在未塗布區域,較高的摻興奮劑與更快的蝕刻和更深的蝕刻深度在固定時間相關。觀察的Pt和Pd的蝕刻率比Au高得多,這表明一種催化作用。最後,需要注意的是,H2O2 只是一種可能的氧化劑,其他可能也工作或更好, 關鍵功能是在金屬解決方案介面生成移動孔的能力。
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